技術賞[歴代受賞者一覧]

※ 所属は受賞当時のもの

受賞名

氏名/所属/タイトル

2018年
[詳細]

第25回技術賞

横田 有為,大橋 雄二,吉川 彰 (東北大学)
鎌田 圭,庄子 育宏(株式会社 C&A)
井上 憲司(株式会社 Piezo Studio)

「新規ランガサイト型圧電結晶の製造技術とデバイス技術の開発」

2017年

第24回技術賞

該当者なし

2016年
[詳細]

第23回技術賞

藤岡 洋,太田 実雄,小林 篤,上野 耕平(東京大学生産技術研究所)

「非晶質基板上への窒化物半導体LED作製技術の開発」

奥津 哲夫(群馬大学大学院理工学府)

「タンパク質結晶化促進プレートの開発」

2015年
[詳細]

第22回技術賞

三宅 秀人(三重大学大学院地域イノベーション学研究科・教授)
福山 博之(東北大学多元物質科学研究所・教授)

「サファイア基板上への高品質窒化アルミニウム成長技術」

2014年

第21回技術賞

島村 清史,エンカルナシオン・アントニア・ガルシア・ビジョラ(物質・材料研究機構)
青木 和夫,吉川 幸雄((株)光波)
一ノ瀬 昇(早稲田大学)

「新しいワイドギャップ半導体β-Ga2O3単結晶の開発」

今出 完,吉村 政志,丸山 美帆子(大阪大学)
川村 史朗,森 勇介(物質・材料研究機構)

「Naフラックス法による大口径・高品質GaN結晶育成技術」

2013年

第20回技術賞

川瀬 智博(住友電気工業(株))
羽木 良明,橋尾 克司,金子 秀一(住電半導体材料(株))
鴻池 一暁(住友電気工業(株))
井上 哲也(住電半導体材料(株))

「縦型ボ-ト法による大型高品質GaAs・InP結晶の量産化」

熊谷 義直(東京農工大学)
永島 徹,木下 亨((株)トクヤマ)
纐纈 明伯(東京農工大学)

「HVPE法による窒化アルミニウム単結晶基板の開発」

2012年

第19回技術賞

柴田 直樹,牛田 泰,斎藤 義樹久,奥野 浩司(豊田合成(株))
向井 孝志,長濱 慎一,森田 大介,成川 幸男(日亜化学工業(株))

「窒化物半導体発光素子の技術開発と量産化」

2011年

第18回技術賞

鹿島 一日兒(コバレントマテリアル(株))
泉妻 宏治(コバレントシリコン(株))

「アニールSiウェハの開発とgrown-in 欠陥評価」

2010年
[詳細]

第17回技術賞

梅野 正義(名古屋工業大学(名誉教授),中部大学(客員教授))
江川 孝志(名古屋工業大学)

「MOCVD装置及びSi上化合物半導体成長技術の開発」

2009年
[詳細]

第16回技術賞

吉川 彰,柳田 健之,横田 有為(東北大学)
鎌田 圭(古河機械金属(株))
荻野 拓(東京大学)

「ガンマ線用シンチレータPr:LuAG単結晶の開発とその応用展開」

2008年
[詳細]

第15回技術賞

安達 宏昭((株)創晶)
森 勇介,佐々木 孝友2,高野 和文(大阪大学)

「タンパク質の新しい結晶成長技術の開発」

2007年
[詳細]

第14回技術賞

倉知 雅人,佐橋 家隆((株)山寿セラミックス)

「高機能タンタル酸リチウム・ニオブ酸リチウム単結晶ウエハの開発と量産化」

2006年

第13回技術賞

入倉 正登,岡久 拓司,笠井 仁,竹本 菊郎,中畑 成二,松本 直樹,三浦 祥紀,元木 健作(住友電気工業(株))

「VPE法による高品質2インチGaN基板量産技術の開発」

2005年

第12回技術賞

大場 点(キヤノンオプトロン(株))
雄山 泰直(キヤノン(株))

「半導体リソグラフィー用高品位蛍石単結晶の開発」

2004年

第11回技術賞

石橋 浩之,藏重 和央,住谷 圭二(日立化成工業(株))

「PET用φ105 mm-GSO単結晶の開発」

碓井 彰(株))

「FIELO(facet initiated epitaxial lateral overgrowth)法によるGaN厚膜単結晶成長法の開発」

2003年

第10回技術賞

古川 保典,松村 禎夫,伊藤 猛,羽生 真之,松倉 誠,名取 雅公,北村 健二*,竹川 俊二*((株)オキサイド,*独立行政法人物質材料研究機構と兼任)

「定比ニオブ酸リチウム・タンタル酸リチウム単結晶の実用開発」

角谷 均,戸田 直大(住友電工(株))
佐藤 周一((財)ファインセラミックスセンター:出向中)

「高純度,高完全性ダイヤモンド単結晶の工業的育成法の開発」

2002年

第9回技術賞

長澤 弘幸,八木 邦明,河原 孝光(HOYA(株))

「アンジュレーター付Si(001)基板への3C-SiCヘテロエピタキシャル成長」

進藤 勇((株)クリスタルシステム)

「四楕円鏡型赤外線単結晶製造装置の開発とその利用法」

2001年

第8回技術賞

細川 忠利,町田 博((株)トーキン)
樋口 幹雄(北海道大学)

「光アイソレータ用高品質ルチル単結晶の開発」

島貫 康,森田 悦郎,降屋 久,池澤 一浩,原田 和浩,田中 俊郎,龍田 次郎(三菱マテリアルシリコン(株))

「シリコン結晶中のCOPの発見とCOPフリー“ピュアシリコン”の開発」

2000年

第7回技術賞

平野 立一,小廣 健司,甲斐荘 敬司,小田 修((株)日鉱マテリアルズ)

「高品質InP単結晶の開発」

1999年

第6回技術賞

藤田 慶一郎,龍見 雅美,盛岡 幹雄,藪原 良樹,川瀬 智博,細川 佳宏(住友電気工業(株))

「大口径高品質化合物半導体基板の開発」

1998年

第5回技術賞

石川 武正,本田 洋一,佐藤 忠邦((株)トーキン)

「光アイソレーター用大口径液相エピタキシャルガーネット単結晶の開発と量産化への貢献」

1997年

第4回技術賞

前島 善文,川崎 宏一((株)東京電子冶金研究所)

「熱交換法による光学用大口径Ge単結晶の作成」

1996年

第3回技術賞

米澤 卓三,太田 裕,高橋 和浩((株)信光社)

「超伝導薄膜酸化物基板結晶加工技術の開発」

1994年

第2回技術賞

柴田 真佐知,隈 彰二,稲田 知己,鈴木 隆(日立電線(株))

「高品質大型GaAs単結晶の開発」

1993年

第1回技術賞

西村 俊夫,松村 偵夫,小見 忠雄(東芝(株))

「弾性表面波素子用酸化物単結晶の成長技術の開発」

桑野 泰彦,古宇田 光,井元 祥子(日本電気(株))

「非線形光学用結晶合成技術の確立」

山岸 喜代志,山口 靖英,安斎 裕,野部 幸男,杉本 晶子(三井金属工業(株))

「固体レーザー用結晶合成技術の確立」

HOME > 日本結晶成長学会賞 > 技術賞

©2018 日本結晶成長学会