日本結晶成長学会
バルク成長分科会
会員各位殿

日本結晶成長学会
バルク成長分科会幹事長	渡辺　 匡人

第67回研究会開催のお知らせ

会員の皆様におかれましては、ますますご活躍のこととご推察申し上げます。
このたび、当分科会の第67回研究会を開催いたします。テーマは「ナイトライド結晶成長の新展開」で, 現在注目を集めているAlN結晶の結晶成長方法とその応用に関して議論していただきます。
多くの会員の皆様のご出席およびご討論をお願いしたく、ご案内申し上げます。

主催：日本結晶成長学会バルク成長分科会
共催：東京農工大学21世紀COEプログラム「ナノ未来材料」

日時：	平成17年11月25日（金） 13：30 〜 17：10
場所：	東京農工大学 小金井キャンパス　講義棟L0026教室 〒184-8588 東京都小金井市中町2-24-16 詳しくは東京農工大学ホームページの交通アクセス・キャンパスマップ 　　hhttp://www.tuat.ac.jp/access/をご参照ください。

＜プログラム＞

13：30〜14：10	「溶液成長法によるAlN単結晶育成」
	亀井一人，白井善久，田中　努，井上　茂，八内　昭博 住友金属工業（株）総合技術研究所
14：10〜14：50	「Substrate assisted growth of AlN bulk crystals by sublimation」
	Krishnan　Balakrishnan1)，土屋法隆1)，岩谷素顕1)，上山 智1)， 天野 浩1)，赤崎 勇1)，下野健二2)，野呂匡志2)，高木 俊2) 1)名城大学 理工学部，2)イビデン(株) セラミック事業本部
14：50〜15：10	− 休憩 −
15：10〜15：50	「エピタキシャルAlN/サファイア上へのAlNのHVPE成長」
	三宅秀人，平松和政 三重大学 工学部
15：50〜16：30	「HVPE法によるAlN厚膜エピタキシャル成長」
	纐纈明伯，熊谷義直 東京農工大学大学院工学系 ナノ未来科学研究拠点
16：30〜17：10	「電子デバイスに向けたシリコン基板上化合物半導体膜の可能性」
	中西秀夫，阿部芳久，小宮山純，鈴木俊一 東芝セラミックス（株）開発研究所

＜お問い合わせ先＞