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歴代受賞者一覧 技術賞

※ 所属は受賞当時のもの

2016年第23回技術賞 藤岡 洋(東京大学生産技術研究所 教授),太田 実雄(東京大学生産技術研究所 助教),
小林 篤(東京大学生産技術研究所 特任助教),上野 耕平(東京大学生産技術研究所 特任助教)
「非晶質基板上への窒化物半導体LED作製技術の開発」

奥津 哲夫(群馬大学大学院理工学府 教授)
「タンパク質結晶化促進プレートの開発」
2015年第22回技術賞 三宅 秀人(三重大学大学院地域イノベーション学研究科 教授),福山 博之(東北大学多元物質科学研究所 教授)
「サファイア基板上への高品質窒化アルミニウム成長技術」
2014年第21回技術賞 島村 清史(物質・材料研究機構エネルギー材料部門光電子材料ユニット光学単結晶グループ グループリーダー),エンカルナシオン・アントニア・ガルシア・ビジョラ(物質・材料研究機構エネルギー材料部門光電子材料ユニット光学単結晶グループ 主任研究員), 青木 和夫((株)光波開発本部・顧問),吉川 幸雄((株)光波品質保証本部 品質保証G マネージャー),一ノ瀬 昇(早稲田大学 名誉教授)
「新しいワイドギャップ半導体β-Ga2O3単結晶の開発」

今出 完(大阪大学大学院工学研究科 助教),吉村 政志(大阪大学大学院工学研究科 准教授),丸山 美帆子(大阪大学大学院工学研究科 特任助教)(大阪大学),川村 史朗(物質・材料研究機構先端材料プロセスユニット超高圧グループ 主任研究員),森 勇介(大阪大学大学院工学研究科 教授)
「Naフラックス法による大口径・高品質GaN結晶育成技術」
2013年第20回技術賞 川瀬 智博(住友電気工業(株)新規事業開発本部パワーデバイス開発部 グループ長),羽木 良明(住電半導体材料(株)製造部 部長),橋尾 克司(住電半導体材料(株)製造部伊丹工場 工場長),金子 秀一(住電半導体材料(株)製造部 課長),鴻池 一暁(住友電気工業(株)研究統轄本部半導体技術研究所 研究員), 井上 哲也(住電半導体材料(株) 代表取締役社長)
「縦型ボ−ト法による大型高品質GaAs・InP結晶の量産化」

熊谷 義直(東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門 准教授),永島 徹((株)トクヤマ研究開発部門開発センター(つくば) 研究員),木下 亨((株)トクヤマ研究開発部門開発センター(つくば) 研究員),纐纈 明伯(東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門 教授)
「HVPE法による窒化アルミニウム単結晶基板の開発」
2012年第19回技術賞 柴田 直樹(豊田合成(株)オプトE事業部第1技術部 部長),牛田 泰(豊田合成(株)オプトE事業部開発部 室長),斎藤 義樹(豊田合成(株)オプトE事業部開発部 チームリーダー),
奥野 浩司(豊田合成(株)オプトE事業部第1技術部 主任), 向井 孝志(日亜化学工業(株)第二部門LED開発本部 本部長),長濱 慎一(日亜化学工業(株)第二部門LD事業統轄部LD技術開発部 部長), 森田 大介(日亜化学工業(株)第二部門LED技術本部第二技術部第二課第一係 主査研究員), 成川 幸男 (日亜化学工業(株)第二部門LED開発本部第二開発部 部長)
「窒化物半導体発光素子の技術開発と量産化」
2011年第18回技術賞 鹿島 一日兒(コバレントマテリアル(株) 技監),泉妻 宏治(コバレントシリコン(株)開発技術部 部長)
「アニールSiウェハの開発とgrown-in 欠陥評価」
2010年第17回技術賞 梅野 正義(名古屋工業大学 名誉教授,中部大学 客員教授),江川 孝志(名古屋工業大学)
「MOCVD装置及びSi上化合物半導体成長技術の開発」
2009年第16回技術賞 吉川 彰,柳田 健之(東北大学),鎌田 圭(古河機械金属(株)),横田 有為(東北大学),
荻野 拓(東京大学)
「ガンマ線用シンチレータPr:LuAG単結晶の開発とその応用展開」
2008年第15回技術賞 安達 宏昭((株)創晶),森 勇介,佐々木 孝友,高野 和文(大阪大学)
「タンパク質の新しい結晶成長技術の開発」
2007年第14回技術賞 倉知 雅人,佐橋 家隆((株)山寿セラミックス)
「高機能タンタル酸リチウム・ニオブ酸リチウム単結晶ウエハの開発と量産化」
2006年第13回技術賞 入倉 正登,岡久 拓司,笠井 仁,竹本 菊郎,中畑 成二,松本 直樹,三浦 祥紀,元木 健作(住友電気工業(株))
「VPE法による高品質2インチGaN基板量産技術の開発」
2005年第12回技術賞 大場 点(キヤノンオプトロン(株)),雄山 泰直(キヤノン(株))
「半導体リソグラフィー用高品位蛍石単結晶の開発」
2004年第11回技術賞 石橋 浩之,藏重 和央,住谷 圭二(日立化成工業(株))
「PET用φ105 mm-GSO単結晶の開発」

碓井 彰(古河機械金属(株))
「FIELO(facet initiated epitaxial lateral overgrowth)法によるGaN厚膜単結晶成長法の開発」
2003年第10回技術賞 古川 保典,松村 禎夫,伊藤 猛,羽生 真之,松倉 誠,名取 雅公,北村 健二*,竹川 俊二*((株)オキサイド,*物質・材料研究機構と兼任)
「定比ニオブ酸リチウム・タンタル酸リチウム単結晶の実用開発」

角谷 均,戸田 直大(住友電工(株)),佐藤 周一((財)ファインセラミックスセンター:出向中)
「高純度,高完全性ダイヤモンド単結晶の工業的育成法の開発」
2002年第9回技術賞 長澤 弘幸,八木 邦明,河原 孝光(HOYA(株))
「アンジュレーター付Si(001)基板への3C-SiCヘテロエピタキシャル成長」

進藤 勇((株)クリスタルシステム)
「四楕円鏡型赤外線単結晶製造装置の開発とその利用法」
2001年第8回技術賞 細川 忠利,町田 博((株)トーキン),樋口 幹雄(北海道大学)
「光アイソレータ用高品質ルチル単結晶の開発」

島貫 康,森田 悦郎,降屋 久,池澤 一浩,原田 和浩,田中 俊郎,龍田 次郎(三菱マテリアルシリコン(株))
「シリコン結晶中のCOPの発見とCOPフリー“ピュアシリコン”の開発」
2000年第7回技術賞 平野 立一,小廣 健司,甲斐荘 敬司,小田 修((株)日鉱マテリアルズ)
「高品質InP単結晶の開発」
1999年第6回技術賞 藤田 慶一郎,龍見 雅美,盛岡 幹雄,藪原 良樹,川瀬 智博,細川 佳宏(住友電気工業(株))
「大口径高品質化合物半導体基板の開発」
1998年第5回技術賞 石川 武正,本田 洋一,佐藤 忠邦((株)トーキン)
「光アイソレーター用大口径液相エピタキシャルガーネット単結晶の開発と量産化への貢献」
1997年第4回技術賞 前島 善文,川崎 宏一((株)東京電子冶金研究所)
「熱交換法による光学用大口径Ge単結晶の作成」
1996年第3回技術賞 米澤 卓三,太田 裕,高橋 和浩((株)信光社)
「超伝導薄膜酸化物基板結晶加工技術の開発」
1994年第2回技術賞 柴田 真佐知,隈 彰二,稲田 知己,鈴木 隆(日立電線(株))
「高品質大型GaAs単結晶の開発」
1993年第1回技術賞 西村 俊夫,松村 偵夫,小見 忠雄(東芝(株))
「弾性表面波素子用酸化物単結晶の成長技術の開発」

桑野 泰彦,古宇田 光,井元 祥子(日本電気(株))
「非線形光学用結晶合成技術の確立」

山岸 喜代志,山口 靖英,安斎 裕,野部 幸男,杉本 晶子(三井金属工業(株))
「固体レーザー用結晶合成技術の確立」